磁控溅射论文

论文摘要信息时代的今天,磁记录是主要的存储手段。随着计算机及网络技术的发展,人们需要越来越高的数据存储密度,垂直磁记录介质是实现超高密度垂直磁存储的重要一环。Co-W合金由于具...

论文摘要近年来,随着微流控芯片技术的不断深入和发展,纳流控芯片技术或微纳流控芯片技术也得到了快速的发展。微纳流控芯片在离子或分子的分离与富集方面的研究有广阔的前景。随着纳流控芯...

论文摘要随着现代工业的发展,各种功能薄膜越来越多地应用到各个领域；磁控溅射镀膜技术不仅具有沉积温度低、薄膜附着性好,均匀性好、密度高、杂质少,膜的厚度可以控制,操作简单等优点,...

论文摘要铜锌锡硫（Cu2ZnSnS4，CZTS）薄膜太阳能电池由于成本低、光电转换效率高且无毒，成为近年来光伏领域的研究热点。CZTS属于黝锡矿结构，其禁带宽度（Eg）约1.4...

论文摘要磁场分布在整个磁控溅射过程中起着至关重要的作用,磁场强度的大小、分布决定了等离子体的特性,从而对成膜质量、靶材刻蚀的均匀程度以及靶材的利用率均有很大的影响。此外磁控靶的...

论文摘要透明导电氧化物薄膜具有优良的性能,是一种重要的光电薄膜。随着科学技术研究的不断深入和高新技术及现代国防的需要,透明导电薄膜将会在新型的电子薄膜材料中占有重要的地位。氧化...

论文摘要纤锌矿结构的MgxZn（1-x）O具有与ZnO相似的结构和光学特性,并且其带隙在一定范围内连续可调,近年来被看作是ZnO基LED的合适垒层材料。目前,人们已经能够制备出...

论文摘要辐照损伤是核材料研究中最具特色和难度的重要问题。特别是由于α放射性的固体所产生的α粒子（如钚）或含氚材料中因氚衰变产生的氦-3在材料自身晶格中的滞留,产生自辐照效应以及...

论文摘要本文采用射频磁控溅射法,首次在透明柔性聚合物TPT材料衬底上制备了掺铝氧化锌透明导电薄膜（ZAO）,研究了关键工艺参数对薄膜结构及光电性能的影响,并与玻璃衬底上制备的Z...

论文摘要ZnO是宽禁带直接带隙半导体材料,禁带宽度达3.37eV,ZnO的激子束缚能为60MeV,高于GaN材料的21MeV,更易于实现室温紫外受激发射。而且,ZnO易于找到晶...

论文摘要ZnO宽禁带半导体,由于在短波长光电子器件潜在的应用前景,近十余年,一直是国际光电子领域的前沿课题和研究热点之一。虽然在ZnO薄膜材料制备和器件方面取得了很大的进展,但...

论文摘要电厂的安全生产需要对大型高温管线进行损伤分析、寿命监测与预测维修,而高温管线的寿命在线监测关键就是依靠可长时间、高精度、稳定工作的高温应变计。目前国内应用的高温应变计如...

论文摘要随着科学技术的发展,对传感器功能的要求也越来越高。采用MEMS工艺制作的ZnO压电薄膜压力传感器,具有体积小、易集成、灵敏度和信噪比高等优点。但是复合微悬臂梁式传感器制...

论文摘要本文采用磁控溅射-电泳沉积复合技术在GH3128高温合金基底表面制备双层结构NiCoCrAlY/YSZ纳米热障涂层。研究了磁控溅射NiCoCrAlY粘结层在大气环境和低...

论文摘要ZnO和ZnS都是II-VI族宽带隙半导体材料，具有良好的光电性能，被广泛地应用于发光二极管、荧光显示和光催化等领域。随着纳米技术的迅猛发展，成功地合成出了ZnO以及Z...

论文摘要为满足轴瓦工作性能要求，轴瓦材料逐渐由单层合金向多层复合发展，其中轴瓦涂层对轴瓦性能的大幅提高起着重要的作用。目前轴瓦涂层主要分为电镀涂层和磁控溅射涂层。电镀涂层中由于...

论文摘要近年来，镁及其合金因储量丰富，性能优良受到人们的关注，广泛应用于航空航天、微电子产业、汽车工业。但是，镁及其合金的耐腐蚀性能较差，这一缺陷限制了其广泛应用。提高镁合金的...

论文摘要NdFeB作为一种非常引人注目的稀土金属间化合物,它的出现使永磁材料进入了一个新的时代,也为许多行业带来了巨大的发展。而对NdFeB磁性薄膜的研究既推动了NdFeB作为...

论文摘要近年来,随着液晶显示器的迅速普及,以及太阳能电池的蓬勃发展,透明电极的需求量正在快速增加。在透明导电氧化物材料中,氧化铟锡(ITO)因其具有优异的光电性能而得到最广泛的...

论文摘要ZnO是一种宽禁带半导体材料,激子复合能高,在紫外区具有高的光电导特性,电子诱生缺陷低,外延生长温度低、成膜性强,有利于制备高性能的紫外探测器。本论文用磁控溅射法制备了...