• 纳米压印及MEMS仿生功能表面制备的研究

    纳米压印及MEMS仿生功能表面制备的研究

    论文摘要传统的光学光刻由于受光波波长和数值孔径等因素的限制,难于制作线宽小于100nm的图案。纳米压印是通过压印使抗蚀剂薄膜产生物理变形以实现光刻胶的图形化,因此其分辨率不受光...