高浓度离子注入论文

超临界CO2微乳液去除光刻胶的研究
论文摘要超临界二氧化碳（scCO2）作为一种新型清洗介质,由于其极低的表面张力、良好的扩散性及温和的临界条件,近年来被尝试用于微电子工艺中光刻胶的去除。目前这方面的研究大多集中...