掺杂钛酸锶钡薄膜的制备与电性能的研究

掺杂钛酸锶钡薄膜的制备与电性能的研究

论文题目: 掺杂钛酸锶钡薄膜的制备与电性能的研究

论文类型: 博士论文

论文专业: 材料学

作者: 付兴华

导师: 傅正义

关键词: 薄膜,介电性能,微观结构,掺杂元素,溶胶凝胶技术

文献来源: 武汉理工大学

发表年度: 2005

论文摘要: (Sr,Ba)TiO3薄膜在DRAM、相位移器等领域的应用前景已成为国内外材料研究的主要领域之一。本文以Ba(Ac)2、Sr(Ac)2·1/2H2O和Ti(OC4H9)4为主要前驱化合物,研究了sol-gel技术制备薄膜的工艺参数、结构与性能的关系。 冰醋酸、无水乙醇作为溶剂,其用量分别为10~20ml,丙三醇和乙酰丙酮0.5~2ml分别作为表面活性剂和螯合剂时,制得溶胶的PH值为3~4,粘度为3cp~6cp,浓度为O.3~O.4mol/L。当均胶速率为3500r/min,时间为30s时,均胶三层的薄膜厚度为450nm。当升/降温速率为0.5~1℃/min,保温时间为1小时,薄膜表面颗粒分布均匀,无裂纹。Pt/TiO2/SiO2/Si(100)结构稳定了Pt电极,避免了电极的剥落。乙酰丙酮是较理想的螯合剂,它能使钙钛矿的形成温度降低到624℃,其机理为溶胶中的乙酰丙酮由酮式向烯醇式异构体的转变,容易地与Ti(COC4H9)4螯合形成网络结构,而Ba2+、Sr2+等离子能均匀的分布在此网络中,热分解时金属离子能够均匀地分布,避免了某些阳离子的富集,利于晶相的形成,晶粒能够均匀地长大,其平均粒径为80nm。当薄膜的退火温度为750℃、厚度为450nm时,表现出较好的电性能。 SrTiO3和BaTiO3有不同的居里温度点,可以通过调整Sr/Ba,的比例改变SBT薄膜的居里温度点,获得最大的介电常数。在相同测试频率(1KHz)下,在低阻硅(3~6Ωcm)基片上制备的薄膜,Sr/Ba比为O.5(M3)时,Sr0.5Ban0.5TiO3薄膜相对于其它sr/Ba比的薄膜而言,其相对介电常数ε r最大(ε r=78),介质损耗tan δ最小(tan δ=O.057),最大介电常数温度点Tm为305K;但当同样Sr/Ba=O.5的薄膜在高阻硅(3000 Ω cm)基片上生成时,εr和tan δ分别为l 00.54和0.060,Tm为308K,其性能远优于低阻硅基片上生长的薄膜。在两种基片上沉积的薄膜均具有良好的介频特性。 微量元素铋、钇(其掺量范围分别为0.000~0.030mol)和铌(其掺量范围为0.000~O.0412mol)均降低了SBT薄膜的介质损耗tan δ,且随着微量元素添加量的增加,最大介电常数温度点Tm逐渐移向低温,介电常数峰的半高宽增

论文目录:

第1章 绪论

1.1 (Sr_xBa_(1-x))TiO_3薄膜的应用热点

1.2 BST薄膜制备技术与发展

1.3 薄膜的结构

1.4 存在的问题

1.5 实验目的及内容

1.6 实验原料及主要测试仪器

第2章 BST薄膜sol-gel的制备技术

2.1 基片

2.2 电极的制备

2.3 溶胶的制备

2.4 热处理制度

2.5 螯合剂对BST薄膜结构与性能的影响

2.6.退火温度对薄膜结构与性能的影响

2.7 薄膜厚度对性能的影响

2.8 本章结论

第3章 BST薄膜的介电性能

3.1 Sr_(1-x)Ba_xTiO_3薄膜的介电性能

3.2 Sr_(0.5)Ba_(0.5-x)Bi_xTiO_3薄膜的介电性能

3.3 Sr_(0.5)Ba_(0.5-y)Y_yTiO_3薄膜的介电性能

3.4 Sr_(0.5)Ba_(0.5)Ti_(1-z)Nb_zO_3薄膜的介电性能

3.5 不同硅片对BST薄膜介电性能的影响

3.6 本章结论

第4章 BST薄膜的铁电性能

4.1 铁电畴和畴运动

4.2 Sr_(0.5)Ba_(0.485)Bi_(0.015)TiO_3薄膜的微畴结构

4.3 Sr_(0.5)Ba_(0.5-x)Bi_xTiO_3薄膜的电滞回线

4.4 本章结论

第5章 BST薄膜结构分析

5.1 BST薄膜的表面和断面形貌

5.2 BST薄膜的XRD分析

5.3 BST薄膜的TEM和HRTEM分析

5.4 Sr_(0.5)Ba_(0.5-x)Bi_xTiO_3粉末的FTIR分析

5.5 本章结论

第6章 结论

创新及研究展望

参考文献

附录一:读博期间发表及录用的论文

附录二:相关专业的获奖情况

致谢

发布时间: 2005-10-11

参考文献

  • [1].Si基SiCN晶体薄膜的制备研究[D]. 何晓龙.南京大学2018
  • [2].BMT/PZT异质叠层薄膜的制备及性能研究[D]. 吴智.武汉理工大学2016
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  • [4].二硫化钼薄膜及其光电器件的制备和性质研究[D]. 单俊杰.长春理工大学2018
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  • [7].MoSex和WS2薄膜的制备及其性能研究[D]. 李宁.西北工业大学2016
  • [8].各向异性Nd-Ce-Fe-B多层永磁相薄膜的磁性和结构[D]. 孙亚超.钢铁研究总院2018
  • [9].铜铬共掺杂类金刚石碳基薄膜的制备、结构与物性研究[D]. 孙丽丽.中国科学院大学(中国科学院宁波材料技术与工程研究所)2017
  • [10].Cr-Si-C-N薄膜结构及其在水环境中摩擦与腐蚀特性研究[D]. 吴志威.南京航空航天大学2016

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