极紫外光刻论文
![3mm内径毛细管氙气放电产生极紫外辐射最佳条件研究]()
3mm内径毛细管氙气放电产生极紫外辐射最佳条件研究
论文摘要极紫外（Extremeultraviolet,EUV）光刻技术被视为实现32nm及更小技术节点的下一代主流光刻技术，它采用波长为13.5nm的极紫外辐射光作为曝光光源。...![放电等离子体极紫外光谱测量及分析]()
放电等离子体极紫外光谱测量及分析
论文摘要极紫外（ExtremeUltraviolet,EUV）光刻技术被认为是下一代最有前途的光刻技术之一,而其中的光源被认为是影响EUV光刻技术大规模工业化生产的首要问题。放...![极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术]()
极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术
论文摘要极紫外光刻技术(EUVL)被称为最有发展潜力的下一代光刻技术,有望接替光学光刻,成为45nm以下光刻产业的主流技术。因而,该技术也是目前国际上先进光刻领域研究的热点。工...
