氮化硅选择比论文

C4F6在130nm产品中接触孔/通孔干法刻蚀工艺中的应用
论文摘要随着设计技术进一步发展,通过以C4F6为基础的刻蚀制程气体在MERIE技术eMAX反应腔室的应用,可以扩大eMAX机台绝缘体材料刻蚀130nm及以下制程的窗口。C4F6...