650nm反射10.6μm透射的薄膜干涉滤光片

650nm反射10.6μm透射的薄膜干涉滤光片

论文摘要

近年来,随着大气光通信技术的飞速发展,对光学系统的光学元件提出了越来越高的要求,而光学薄膜技术则在提升元件光学性能方面扮演着不可或缺的重要角色。本文介绍了650nm反射、10.6μm透射的薄膜干涉滤光片的研制过程。对硫化锌基底及现有镀膜材料的光学、物理性质作出了对比,选用了多光谱硫化锌作为基底,ZnS和YbF3作为高低折射率材料。利用膜系软件进行膜系设计,通过优化膜层厚度达到最佳效果。实验是在TXX700真空镀膜机上完成的,利用电子束和离子辅助进行沉积镀膜,介绍了工艺制备过程,分析了膜层牢固性问题并加以解决,最后给出了综合测试结果和实测光谱曲线。

论文目录

  • 摘要
  • ABSTRACT
  • 目录
  • 第一章 绪论
  • 1.1 光学薄膜的发展现状
  • 1.2 研究背景及内容
  • 第二章 薄膜光学的基本理论
  • 2.1 薄膜干涉原理
  • 2.2 电磁理论基础
  • 2.3 光学薄膜特性计算
  • 第三章 材料选取
  • 3.1 基底材料
  • 3.2 膜料选取
  • 第四章 膜系设计
  • 4.1 截止带的中心透射率
  • 4.2 通带上10.6μm的透射率
  • 4.3 优化设计原理及方法
  • 4.4 膜系的确定
  • 第五章 薄膜制备
  • 5.1 镀膜设备
  • 5.2 工艺因素
  • 5.3 膜厚监控
  • 5.4 考夫曼离子源
  • 5.5 制备过程
  • 第六章 测试结果与分析
  • 结论
  • 致谢
  • 参考文献
  • 相关论文文献

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