本文主要研究内容
作者阿琼,陈再东,戴竞,解清杰（2019）在《响应曲面法-LSSE模型联合优化光催化降解亚甲基蓝》一文中研究指出：应用响应曲面法与LSSE模型确定了光催化降解亚甲基蓝的最佳工艺参数。先通过LSSE方法进行光距模拟,当紫外功率为60 W时,最佳光距为3 cm;通过响应曲面法模拟光催化降解实验,得到最佳工艺参数为pH=11、水膜厚度5 mm、光距3 cm、光照3 h,降解效果最佳。
Abstract
ying yong xiang ying qu mian fa yu LSSEmo xing que ding le guang cui hua jiang jie ya jia ji lan de zui jia gong yi can shu 。xian tong guo LSSEfang fa jin hang guang ju mo ni ,dang zi wai gong lv wei 60 Wshi ,zui jia guang ju wei 3 cm;tong guo xiang ying qu mian fa mo ni guang cui hua jiang jie shi yan ,de dao zui jia gong yi can shu wei pH=11、shui mo hou du 5 mm、guang ju 3 cm、guang zhao 3 h,jiang jie xiao guo zui jia 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自印染助剂的阿琼,陈再东,戴竞,解清杰，发表于刊物印染助剂2019年09期论文，是一篇关于光催化论文,亚甲基蓝论文,模型论文,响应曲面法论文,印染助剂2019年09期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自印染助剂2019年09期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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