As2S8非晶态半导体薄膜波导的光学性质研究

As2S8非晶态半导体薄膜波导的光学性质研究

论文摘要

硫系半导体玻璃因具有较大的非线性折射率、宽的红外透过窗口和良好的成玻能力,是优良超快全光开关器用最佳材料之一,在红外波段电光调制器、光通信波段全光开关器等光电子集成器件领域具有广阔应用前景。本文研究了As2S8非晶态半导体薄膜波导在光照和热处理作用下的光学性质,主要表现在其折射率和膜厚变化。本文着重实验研究了As2S8非晶态半导体薄膜波导在光照和热处理作用下的折射率和膜厚变化。As2S8非晶态半导体薄膜在紫外光辐照作用下,观察了折射率增大的效应,随着辐照时间的延长,折射率增大趋于饱和,在70分钟以后折射率增量达到饱和状态。另外,采用退火处理工艺,研究了沉积态的As2S8非晶态半导体薄膜的折射率增大效应,实验发现当退火温度超过160℃后,退火引起As2S8薄膜折射率明显增大。同时,在以上紫外光辐照与热处理过程中,观察As2S8薄膜的膜厚改变,发现光照与退火处理均导致As2S8薄膜的膜厚减小。光照引起膜厚的减小量在光照时间45分钟以后趋于不变,而退火引起膜厚的减小在退火温度高于160℃以后,更加明显。此外,实验研究了光照饱和态的As2S8薄膜经过退火处理,发现在退火温度低于160℃时,薄膜折射率基本不变,而当退火温度高于160℃后,薄膜折射率明显减小,即在光照与退火关联作用下,As2S8薄膜折射率发生可逆现象。此外,研究了在退火-光照饱和-退火关联作用下,As2S8薄膜折射率的变化;以及在退火-光照未饱和-退火关联作用下,As2S8薄膜折射率的变化。基于以上实验数据,最后实验试制了As2S8玻璃条波导,并通过As2S8薄膜波导的光传输特性实验,显示出良好的导模特性,其传输损耗约0.76dB/cm。

论文目录

  • 摘要
  • ABSTRACT
  • 第1章 绪论
  • 1.1 引言
  • 1.2 硫属非晶态半导体概论
  • 1.3 硫属非晶态半导体波导的特点与本论文工作的意义
  • 1.4 本论文的主要内容
  • 第2章 平板光波导理论
  • 2.1 平面光波导基础
  • 2.1.1 线光学模型
  • 2.1.2 平板波导模式本征方程
  • 2.2 棱镜耦合原理
  • 2S8薄膜制备'>第3章 As2S8薄膜制备
  • 3.1 引论
  • 3.2 薄膜制备
  • 2S8薄膜波导光照与热处理效应实验'>第4章 As2S8薄膜波导光照与热处理效应实验
  • 2S8薄膜的折射率变化效应实验'>4.1 As2S8薄膜的折射率变化效应实验
  • 2S8薄膜的光致折射率变化'>4.1.1 As2S8薄膜的光致折射率变化
  • 2S8薄膜的折射率变化'>4.1.2 退火处理沉积态As2S8薄膜的折射率变化
  • 2S8薄膜膜厚变化效应实验'>4.2 As2S8薄膜膜厚变化效应实验
  • 2S8薄膜光致效应与热处理效应的机理探讨'>4.3 As2S8薄膜光致效应与热处理效应的机理探讨
  • 2S8薄膜的光照-退火关联作用及光学传输实验'>第5章 As2S8薄膜的光照-退火关联作用及光学传输实验
  • 2S8薄膜的退火处理效应实验'>5.1 光照饱和态的As2S8薄膜的退火处理效应实验
  • 2S8薄膜的退火-光照饱和-退火关联处理效应'>5.2 As2S8薄膜的退火-光照饱和-退火关联处理效应
  • 2S8薄膜的退火-未饱和光照-退火关联处理效应'>5.3 As2S8薄膜的退火-未饱和光照-退火关联处理效应
  • 2S8非晶态半导体平板波导的拉曼光谱和XRD图谱'>5.4 As2S8非晶态半导体平板波导的拉曼光谱和XRD图谱
  • 2S8薄膜波导光传输实验及其条波导试制'>5.5 As2S8薄膜波导光传输实验及其条波导试制
  • 第6章 结论与展望
  • 6.1 结论
  • 6.2 进一步工作的方向
  • 致谢
  • 参考文献
  • 攻读学位期间参与的科研项目及研究成果
  • 相关论文文献

    • [1].掺锡As_2S_8薄膜光折变效应及其在条波导制备中的应用研究[J]. 物理学报 2009(05)
    • [2].非晶态As_2S_8半导体薄膜的光致结构变化效应研究[J]. 光子学报 2008(05)
    • [3].掺锡As_2S_8非饱和光阻断效应实验与机理研究[J]. 光电子.激光 2012(08)
    • [4].基于掺锡As_2S_8条波导的全光逻辑门研究[J]. 光学与光电技术 2011(03)
    • [5].非晶态As_2S_8薄膜波导光阻断效应切断过程研究[J]. 光学学报 2011(12)
    • [6].As_2S_8波导光阻断效应回复过程机理[J]. 光电工程 2011(07)

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