论文摘要
由于金刚石在力、热、光、电学等方面独特的性质,正引起人们广泛的关注。在金刚石膜的应用前景中最为重要的一个领域是,金刚石膜作为电子发射材料在高频、大功率和高温电子器件中的使用。而纳米金刚石薄膜的制备、表征和应用研究已经成为该领域的一个新热点。本文描述了用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法在硅基底上制备纳米金刚石薄膜的方法和过程,并对制备的薄膜进行了表面分析。在此基础上研制出了用来测定反射型二次电子发射系数的实验装置,得出了这几种薄膜在不同入射能量下的二次电子发射系数,取得了满意的结果(二次电子发射系数δ=15),表明了纳米金刚石薄膜作为二次电子发射材料具有很好的应用前景。
论文目录
摘要Abstract第一章 绪论1.1 纳米金刚石薄膜SEE的研究价值1.2 研究现状1.3 论文的研究内容第二章 次级电子发射的基本理论2.1 固体能带模型2.2 负电子亲和势、逸出深度2.3 次级电子发射理论2.3.1 次级电子发射的物理过程2.3.2 定量计算2.3.3 影响次级发射系数的因素2.4 透射型次级发射系数的理论计算第三章 薄膜的制备与表面分析3.1 金刚石薄膜的结构和优异特性3.2 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置3.3 纳米金刚石薄膜制备过程3.4 薄膜分析方法3.4.1 X射线衍射方法(XRD)3.4.2 扫描电子显微镜(SEM)3.4.3 原子力显微镜(AFM)3.4.4 Raman光谱3.5 薄膜分析结果第四章 次级电子发射特性实验4.1 次级电子发射的实验方法4.2 实验装置与测定原理4.3 实验步骤4.4 实验结果4.5 实验讨论与结论致谢参考文献
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标签:纳米金刚石薄膜论文; 方法论文; 负电子亲和势论文; 次级发射系数论文;