王玉新:沉积时间对Sn-Mg共掺ZnO薄膜光电性能的影响论文

王玉新:沉积时间对Sn-Mg共掺ZnO薄膜光电性能的影响论文

本文主要研究内容

作者王玉新,崔潇文,臧谷丹,赵帅,李真,王磊,丛彩馨(2019)在《沉积时间对Sn-Mg共掺ZnO薄膜光电性能的影响》一文中研究指出:采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上,在衬底温度为440℃,喷嘴到衬底距离为4 cm,掺杂原子(Zn∶Mg∶Sn)比例为97.6∶2∶0.4,载气流量为0.8 L/min的固定条件下,制备了不同薄膜沉积时间(5 min、7 min、9 min、11 min)的Sn-Mg共掺的ZnO薄膜。并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光谱(PL)、紫外可见分光光度计(UV-VIS)、薄膜测厚仪(SCG-10)和伏安特性曲线(I-V)对薄膜的结构、表面形貌、发光性能、透过率、膜厚和电学性能进行了一系列表征。当沉积时间为7 min时,XRD表明,薄膜的(101)峰强度最大,择优取向明显。SEM图显示薄膜表面致密光滑,颗粒均匀,尺寸最大且形貌最佳。PL谱在372 nm处的发射峰强度最大,峰形最尖锐,所有薄膜的透过率在可见光区域都超过了80%,表现出了很好的光透过性能。从薄膜的I-V特性曲线可计算出此时的电阻最小,导电性能最佳。

Abstract

cai yong chao sheng pen wu re jie fa zai dan ying bo li chen de shang ,zai chen de wen du wei 440℃,pen zui dao chen de ju li wei 4 cm,can za yuan zi (Zn∶Mg∶Sn)bi li wei 97.6∶2∶0.4,zai qi liu liang wei 0.8 L/minde gu ding tiao jian xia ,zhi bei le bu tong bao mo chen ji shi jian (5 min、7 min、9 min、11 min)de Sn-Mggong can de ZnObao mo 。bing yong Xshe xian yan she yi (XRD)、sao miao dian zi xian wei jing (SEM)、guang zhi fa guang pu (PL)、zi wai ke jian fen guang guang du ji (UV-VIS)、bao mo ce hou yi (SCG-10)he fu an te xing qu xian (I-V)dui bao mo de jie gou 、biao mian xing mao 、fa guang xing neng 、tou guo lv 、mo hou he dian xue xing neng jin hang le yi ji lie biao zheng 。dang chen ji shi jian wei 7 minshi ,XRDbiao ming ,bao mo de (101)feng jiang du zui da ,ze you qu xiang ming xian 。SEMtu xian shi bao mo biao mian zhi mi guang hua ,ke li jun yun ,che cun zui da ju xing mao zui jia 。PLpu zai 372 nmchu de fa she feng jiang du zui da ,feng xing zui jian rui ,suo you bao mo de tou guo lv zai ke jian guang ou yu dou chao guo le 80%,biao xian chu le hen hao de guang tou guo xing neng 。cong bao mo de I-Vte xing qu xian ke ji suan chu ci shi de dian zu zui xiao ,dao dian xing neng zui jia 。

论文参考文献

  • [1].退火对N掺杂ZnO薄膜的结构和光学性质的影响[J]. 盛习福,杨燕玲.  科技创新与应用.2018(34)
  • [2].氧氩比对ZnO薄膜微观结构及光电特性的影响[J]. 张猛,付宏远,孙艳艳,赵洋,王辉.  河南科技大学学报(自然科学版).2019(06)
  • [3].退火温度对ZnO薄膜结构和内应变的影响[J]. 赵勇,俞进,于鹏,侯硕,梁晓军,方利广,盛广沪.  南昌大学学报(理科版).2011(03)
  • [4].退火温度对N掺杂ZnO薄膜结构和电学性能的影响[J]. 赵祥敏,赵文海,孙霄霄,张梅恒,李敏君.  中国高新技术企业.2017(04)
  • [5].衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO薄膜结构的影响[J]. 付长凤,陈希明,韩连福.  天津理工大学学报.2008(04)
  • [6].薄膜结构最优化裁剪分析[J]. 邵小方,吴健生.  Transactions of Tianjin University.1995(02)
  • [7].X射线薄膜衍射技术及其应用[J]. 陈丽君.  上海钢研.1989(06)
  • [8].Si:H薄膜的微结构及输运性质[J]. 周心明,郑家贵,曾家玉,黄天荃,邱淑蓁,蔡亚平,徐晓菲,冯良桓.  太阳能学报.1989(01)
  • [9].C轴取向AIN薄膜的强电特性分析[J]. 刘付德,曲喜新.  仪表材料.1989(06)
  • [10].空间薄膜结构展开分析模型研究综述[J]. 肖潇,关富玲.  南华大学学报(自然科学版).2015(03)
  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自光电子·激光的王玉新,崔潇文,臧谷丹,赵帅,李真,王磊,丛彩馨,发表于刊物光电子·激光2019年02期论文,是一篇关于超声喷雾热解法论文,共掺论文,薄膜论文,沉积时间论文,光电特性论文,光电子·激光2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自光电子·激光2019年02期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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