本文主要研究内容
作者初红涛,苏立强,马文辉,王颖（2019）在《甲基磺酸体系纯锡电沉积工艺》一文中研究指出：在甲基磺酸电镀液体系中,在铜基底表面电沉积制备了光亮锡镀层。考察了主盐浓度、甲基磺酸用量和光亮剂用量等对镀层表面光亮度的影响;通过扫描电镜、X射线衍射对所得镀层的微观形貌及晶相结构进行表征。结果表明,镀液的分散能力及深镀能力较好,电流效率大于90%。
Abstract
zai jia ji huang suan dian du ye ti ji zhong ,zai tong ji de biao mian dian chen ji zhi bei le guang liang xi du ceng 。kao cha le zhu yan nong du 、jia ji huang suan yong liang he guang liang ji yong liang deng dui du ceng biao mian guang liang du de ying xiang ;tong guo sao miao dian jing 、Xshe xian yan she dui suo de du ceng de wei guan xing mao ji jing xiang jie gou jin hang biao zheng 。jie guo biao ming ,du ye de fen san neng li ji shen du neng li jiao hao ,dian liu xiao lv da yu 90%。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自热加工工艺的初红涛,苏立强,马文辉,王颖，发表于刊物热加工工艺2019年08期论文，是一篇关于甲基磺酸论文,电沉积论文,锡镀层论文,表征论文,热加工工艺2019年08期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自热加工工艺2019年08期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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