本文主要研究内容
作者王战清,郝建民（2019）在《大气压低温等离子体喷涂ZrO2薄膜工艺研究》一文中研究指出：以氮气作为等离子体放电气体,八水合氯氧化锆水溶液作为锆源,金属盐溶液经过氮气雾化后加到等离子体射流下游区域,在硅衬底上进行薄膜喷涂。采用X射线光电子能谱仪对薄膜样品进行成分检测,通过扫描电镜观察薄膜的微观形貌,利用EDS能谱仪对薄膜样品进行元素分析,并对喷涂薄膜的机理过程进行了探讨。结果表明,所制备的薄膜的主要成分为氧化锆,薄膜表面由小颗粒堆积而成,微粒分布比较均匀,颗粒大小在10～20 nm左右。在等离子体喷涂过程中,氮气发生电离后产生了大量的反应活性物质,如N、N2*、和N+等,这些活性物质促使了反应的进行。通过大气压低温等离子体喷涂技术成功的制备出了ZrO2纳米薄膜。
Abstract
yi dan qi zuo wei deng li zi ti fang dian qi ti ,ba shui ge lv yang hua gao shui rong ye zuo wei gao yuan ,jin shu yan rong ye jing guo dan qi wu hua hou jia dao deng li zi ti she liu xia you ou yu ,zai gui chen de shang jin hang bao mo pen tu 。cai yong Xshe xian guang dian zi neng pu yi dui bao mo yang pin jin hang cheng fen jian ce ,tong guo sao miao dian jing guan cha bao mo de wei guan xing mao ,li yong EDSneng pu yi dui bao mo yang pin jin hang yuan su fen xi ,bing dui pen tu bao mo de ji li guo cheng jin hang le tan tao 。jie guo biao ming ,suo zhi bei de bao mo de zhu yao cheng fen wei yang hua gao ,bao mo biao mian you xiao ke li dui ji er cheng ,wei li fen bu bi jiao jun yun ,ke li da xiao zai 10～20 nmzuo you 。zai deng li zi ti pen tu guo cheng zhong ,dan qi fa sheng dian li hou chan sheng le da liang de fan ying huo xing wu zhi ,ru N、N2*、he N+deng ,zhe xie huo xing wu zhi cu shi le fan ying de jin hang 。tong guo da qi ya di wen deng li zi ti pen tu ji shu cheng gong de zhi bei chu le ZrO2na mi bao mo 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自热加工工艺的王战清,郝建民，发表于刊物热加工工艺2019年08期论文，是一篇关于大气压论文,等离子体喷涂论文,工艺论文,氧化锆论文,薄膜论文,热加工工艺2019年08期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自热加工工艺2019年08期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。