本文主要研究内容
作者易善婷,刘峰,方志（2019）在《大气压Ar/NH3/H2O等离子体射流放电特性》一文中研究指出：为提高等离子体射流在材料表面处理、环境保护及消毒灭菌等领域中的应用效果,通过在大气压Ar等离子体射流中添加适量NH3/H2O气体,增强等离子体射流活性。利用发射光谱诊断和发光图像拍摄,研究Ar/NH3/H2O等离子体射流NH、OH、O等强氧化性粒子发射光谱强度及射流长度随外加电压和添加气体含量的变化规律,测量相应条件下电压电流波形和Lissajous图形,并对实验结果做机理分析与讨论。研究结果表明,Ar/NH3/H2O等离子体射流主要产生Ar、N2、NH、OH和O等粒子。随外加电压增大,NH、OH和O等粒子谱线强度、射流长度、放电功率和传输电荷均随之增大。当NH3在Ar/NH3气体体系中体积分数达到0.012 5%时,NH自由基发射光谱强度达到最大。在此条件下添加H2O,发现当H2O体积分数达到0.25%时,OH和O粒子谱线强度达到最大,比Ar/NH3放电时OH和O粒子谱线强度分别增加了104.4%和55.8%,而NH粒子谱线强度则下降了18.7%,此时等离子体射流中氧化性粒子（NH、OH和O）总发射光谱强度达到最大,更有利于在材料亲水改性和消毒灭菌等方面应用。
Abstract
wei di gao deng li zi ti she liu zai cai liao biao mian chu li 、huan jing bao hu ji xiao du mie jun deng ling yu zhong de ying yong xiao guo ,tong guo zai da qi ya Ardeng li zi ti she liu zhong tian jia kuo liang NH3/H2Oqi ti ,zeng jiang deng li zi ti she liu huo xing 。li yong fa she guang pu zhen duan he fa guang tu xiang pai she ,yan jiu Ar/NH3/H2Odeng li zi ti she liu NH、OH、Odeng jiang yang hua xing li zi fa she guang pu jiang du ji she liu chang du sui wai jia dian ya he tian jia qi ti han liang de bian hua gui lv ,ce liang xiang ying tiao jian xia dian ya dian liu bo xing he Lissajoustu xing ,bing dui shi yan jie guo zuo ji li fen xi yu tao lun 。yan jiu jie guo biao ming ,Ar/NH3/H2Odeng li zi ti she liu zhu yao chan sheng Ar、N2、NH、OHhe Odeng li zi 。sui wai jia dian ya zeng da ,NH、OHhe Odeng li zi pu xian jiang du 、she liu chang du 、fang dian gong lv he chuan shu dian he jun sui zhi zeng da 。dang NH3zai Ar/NH3qi ti ti ji zhong ti ji fen shu da dao 0.012 5%shi ,NHzi you ji fa she guang pu jiang du da dao zui da 。zai ci tiao jian xia tian jia H2O,fa xian dang H2Oti ji fen shu da dao 0.25%shi ,OHhe Oli zi pu xian jiang du da dao zui da ,bi Ar/NH3fang dian shi OHhe Oli zi pu xian jiang du fen bie zeng jia le 104.4%he 55.8%,er NHli zi pu xian jiang du ze xia jiang le 18.7%,ci shi deng li zi ti she liu zhong yang hua xing li zi （NH、OHhe O）zong fa she guang pu jiang du da dao zui da ,geng you li yu zai cai liao qin shui gai xing he xiao du mie jun deng fang mian ying yong 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自高电压技术的易善婷,刘峰,方志，发表于刊物高电压技术2019年06期论文，是一篇关于大气压等离子体射流论文,低温等离子体论文,放电特性论文,发射光谱论文,活性粒子论文,谱线强度论文,高电压技术2019年06期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自高电压技术2019年06期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：大气压等离子体射流论文; 低温等离子体论文; 放电特性论文; 发射光谱论文; 活性粒子论文; 谱线强度论文; 高电压技术2019年06期论文;